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AIメカテックの歴史

当社は2016年7月1日株式会社日立製作所から液晶パネル等製造装置のメーカとして独立し、
現在のAIメカテック株式会社となりました。

「厚膜IC用スクリーン印刷機」を国内最速で発表してから約半世紀。
電子部品の高機能化,パネルの製造プロセスにイノベーションをもたらすための研究開発を続け製造装置を提供してきました。
この実績に基づいた技術と経験が私たちの最大の強みです。 “歴史を学ぶことは未来を学ぶこと” ここでは私たちがこれまで歩んできた歴史と技術の変遷を紹介するとともに、
AIメカテックが創造していく未来を少しでもお見せできればと思います。

AIメカテックの変遷

事業の変遷

半導体(印刷機)事業

FPD事業

薄膜事業

2010年代
2018年
印刷機累計2,600台突破
2015年
CMOS用マイクロボール搭載システム
2013年
IC用マイクロボール搭載システム
2011年
CPU用マイクロボール搭載システム発表
印刷機累計2,000台突破
2018年
LC-DSP累計300台突破
LC-IJ DSP累計100台突破
2016年
G10.5 ODFライン発表 (世界最大サイズ)
2015年
12”WF封止システム発表
VAS累計300台突破
2010年
LC-IJ DSP発表
2018年
高精細対応 RGB-IJ ライン発表
2017年
塗布ナノインプリントライン発表
TFE用IJ ライン発表
2013年
光学フィルム貼合せライン発表
2012年
RGB-IJ ライン発表
ロールツーシート封止発表
2011年
ロールツーロール 封止ライン発表
2000年代
2006年
印刷機累計1,500台突破
2002年
南京製印刷機XPシリーズ発表
2001年
バンプ印刷機発表
ハイエンド印刷機HGシリーズ発表
2000年
汎用印刷機NP-04M発表
印刷機累計1,000台突破
2009年
G10 DSP発表
シール塗布装置累計1,000台突破
2004年
G7 ODF ライン発表
シール塗布装置累計500台突破
2002年
HSD型シール塗布装置発表
2000年
世界初ODF量産 ライン発表
量産用液晶滴下DSP発表
2009年
太陽光発電用ロールツーロール IJP発表
レジストパターン描画IJP発表
2007年
配向膜用IJP発表
2006年
有機TFT用IJP発表
2003年
ナノインプリント装置発表
2002年
有機EL発光層用IJP発表
2001年
ラミネータ累計出荷台数500台突破
真空ロールツーロールラミネータ発表
2000年
PDP用ラミネータ発表
1990年代
1996年
ハイエンド印刷機NP-04W発表
1994年
汎用印刷機NP-04Y発表
印刷機累計500台突破
1993年
グリーンシート印刷機
GP-03AN発表
1990年
業界初0.3QFP対応印刷機
NP-04AN MarkIII発表
1999年
ODF試作ライン納入
SD-900(920×730)型
シール塗布装置発表
1998年
ODF(One Drop Fill)開発スタート
1997年
SD-800(650×550)型
シール塗布装置発表
SD-820( 720×600)型
シール塗布装置発表
1994年
GAP追従型シール塗布装置発表
1992年
CF形成用 ラミネータ発表









1980年代
1987年
全自動印刷機
EXP120-AM発表
1983年
全自動印刷乾燥装置
NP-02AM発表
1982年
簡易自動印刷機
YN-7AK発表
1985年
オートカットラミネータ発表






1970年代
1979年
厚膜ICスクリーン印刷機
NP-108発表
1976年
全自動スクリーン印刷機発表
1960年代
1968年
厚膜ICスクリーン印刷機
YN-7A
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